技術顧問:河田 研治

株式会社斉藤光学製作所技術顧問。
専門が「研磨加工」と「微粒子分散」の技術コンサルタント:K-Labo代表。
SiC,GaN加工技術展のスーパーバイザー。
経歴
- 1976年:東北大学工学部を卒業。
- 1976年~2004年:タイホー工業株式会社 中央研究所にて磁性流体や研磨加工の研究に従事。
- 1987年:東京大学より工学博士号(機械工学)を授与。
- 2001年~2004年:東京大学生産技術研究所 客員教授。
- 2004年~2013年:研磨材メーカーの株式会社フジミインコーポレーテッド 主席技師 他。
- 2014年~2023年:国立研究開発法人 産業技術総合研究所 招聘研究員。
- 2020年~現在:株式会社斉藤光学製作所 技術顧問
- 2023年~現在:日本工業出版株式会社 スーパーバイザー
携わった研究
- 1983年~1987年:東京大学生産技術研究所と「新しい研磨技術に関する共同研究」を実施。
- 2001年~2004年:東京大学生産技術研究所 「複合粒子研磨研究プロジェクト」プロジェクトリーダー
- 2004年~2013年:株式会社フジミインコーポレーテッド NEDOプロジェクト「SiC加工技術に関する研究開発」プロジェクトリーダー
- 2010年~2014年:産業技術総合研究所「低炭素社会を実現する新材料パワー半導体プロジェクト」主幹研究員
- 2014年~2018年:産業技術総合研究所「SIP 次世代パワーエレクトロニクス技術開発プロジェクト」研究員
主な賞
日本機械学会(奨励賞、論文賞)、砥粒加工学会(熊谷賞、論文賞)、工作機械技術振興賞(論文賞)など受賞
主な執筆実績
- 「磁性流体の製法と物性」(トライボロジスト、vol41,No.6, 1996年)
- 「砥粒と化学」(砥粒加工学会誌 連載1997年,No.2~No.7)
- 「パワーデバイス用SiCウエハ加工の現状と展望」(精密工学会誌,89,5,2023年)
- 「将来加工技術の展望、パワー半導体用SiC単結晶ウエハの加工研究」(日本工業出版 2022年)部分執筆
- 「シリコンと化合物半導体の超精密・微細加工プロセス技術、第22章SiCパワー半導体基板の研削/研磨加工」,(シーエムシー出版,2024年)部分執筆
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