理想表面の追求と先進材料加工のトータルソリューションを提供Pursuing Ideal Surfaces and Providing Total Solutionsfor Advanced Material Processing
PRODUCT MACHINING RESULTS加工実績
測量器用ガラスGlass for surveying instruments
石英研磨基板Polished Silica glass substrate
光学用セルThe cell for optics
100μmガラス基板Glass substrate [Thickness:100um]
PRODUCT MACHINING RESULTS加工実績
LT/LN基板LiTaO3/LiNbO3 substrate
サファイア基板Sapphire wafer
SiC基板SiC wafer
GaN基板GaN wafer
ニュースリリース
組織変更のお知らせ
2024.09.02 リリース
平素は格別のご高配を賜り、厚く御礼申し上げます。この度、弊社では一層の経営基盤の強化と業務運営の効率化を図るため、組織変更を行いました……
夏季休業のお知らせ
2024.08.08 リリース
平素は格別のご高配を賜り、厚くお礼申し上げます。誠に勝手ながら、下記の期間を夏季休業とさせていただきます。 ■夏季休業日2024……
「健康経営優良法人2024(中小規模法人部門)」に認定されました
2024.04.22 社内取り組み
㈱斉藤光学製作所は、経済産業省と日本健康会議が共同で実施する「健康経営優良法人2024(中小規模法人部門)」に認定されましたことをお知……
弊社ホームページの不具合についてのお詫びと復旧のお知らせ
2024.01.19 リリース
2023年12月28日から2024年1月18日にかけて、弊社ホームページの問い合わせフォームの不具合によりお問い合わせのメッセージが送……
技術ブログ
固定砥粒研磨法とは?メリット/デメリットと種類と実例を徹底解説
2024.09.04 技術顧問コラム「研磨のイロハ」
今回は、「固定砥粒研磨法」について解説します。 工具を用いる研磨法には、遊離砥粒研磨法と固定砥粒研磨法がありますが、それぞれのメ……
ポリシングに用いられる「砥粒」とは?種類と特徴を徹底解説!
2024.07.30 技術顧問コラム「研磨のイロハ」
前回の記事でラッピングの砥粒について解説いたしましたが、今回はポリシングにおける砥粒についてのお話になります。ポリシングにおける砥粒の……
CMPとは?研磨加工の基本原理と加工の流れを徹底解説
2024.07.18 技術部ブログ
今回はCMPに着目して、研磨加工のメカニズムについて解説していきます。 CMPの基本から、CMPを実現する資材、CMPと通常の研……
ラッピングに用いられる「砥粒」とは?特性と代表的な砥粒
2024.06.28 技術顧問コラム「研磨のイロハ」
本ブログの第3回「研磨を構成する3要素と研磨機の特徴を徹底解説」において、砥粒の概略を図1「工作物(被削材)と砥粒(研磨材)」を用いて……