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理想表面の追求と先進材料加工のトータルソリューションを提供Pursuing Ideal Surfaces and Providing Total Solutionsfor Advanced Material Processing
理想表面の追求と先進材料加工のトータルソリューションを提供Pursuing Ideal Surfaces and Providing Total Solutionsfor Advanced Material Processing
測量器用ガラスGlass for surveying instruments
石英研磨基板Polished Silica glass substrate
光学用セルThe cell for optics
100μmガラス基板Glass substrate [Thickness:100um]
LT/LN基板LiTaO3/LiNbO3 substrate
サファイア基板Sapphire wafer
SiC基板SiC wafer
GaN基板GaN wafer
「健康経営優良法人2024(中小規模法人部門)」に認定されました
2024.04.22 社内取り組み
㈱斉藤光学製作所は、経済産業省と日本健康会議が共同で実施する「健康経営優良法人2024(中小規模法人部門)」に認定されましたことをお知……
弊社ホームページの不具合についてのお詫びと復旧のお知らせ
2024.01.19 リリース
2023年12月28日から2024年1月18日にかけて、弊社ホームページの問い合わせフォームの不具合によりお問い合わせのメッセージが送……
2024年年頭所感
2024.01.04 リリース
2024年の年頭にあたり、謹んで新年のご挨拶を申し上げます。 まず、元日に発生しました能登半島地震でお亡くなりになられた方に謹ん……
年末年始のお知らせ
2023.12.18 リリース
拝啓 師走の候、ますますご健勝のこととお喜び申し上げます。平素は格別のご高配を賜り、厚くお礼申し上げます。 さて、株式会社斉藤光……
CMPとは?研磨加工の基本原理と加工の流れを徹底解説
2024.07.18 技術部ブログ
今回はCMPに着目して、研磨加工のメカニズムについて解説していきます。 CMPの基本から、CMPを実現する資材、CMPと通常の研……
ポリシング加工の原理とは?研磨加工のメカニズムについて徹底解説
2024.03.28 技術顧問コラム「研磨のイロハ」
今回はポリシング加工に着目して、研磨加工のメカニズムについて解説していきます。 ポリシング加工と付随してよく見られるのはラッピン……
ラッピング加工のメカニズムの基本を徹底解説
2024.02.22 技術顧問コラム「研磨のイロハ」
今回は、代表的な研磨法であるラッピングやポリシングを例として、研磨により材料(工作物)が除去されていくメカニズムについて解説します。 ……
研磨を構成する3要素と研磨機の特徴を徹底解説
2024.01.31 技術顧問コラム「研磨のイロハ」
今回は、研磨を構成する3要素、及びそれらを使って研磨加工を実現するための機械について解説します。 研磨を構成する3要素とは、以下……