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第16回国際ナノテクノロジー総合展に出展します。

更新日:

nanotech2017に弊社の保有する平行平面研磨技術、また、SiC, ダイヤモンド, GaN等の次世代半導体材料の研磨技術のPRを行うため出展いたします。

日:2017年02月15日(水)~2017年02月17日(金)

場所:東京ビッグサイト 東1-6ホール 

時間:10:00-17:00

異分野融合で加速する、知の共創。世界最大の研究開発マーケットの展示会!

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