第16回国際ナノテクノロジー総合展に出展します。

nanotech2017に弊社の保有する平行平面研磨技術、また、SiC, ダイヤモンド, GaN等の次世代半導体材料の研磨技術のPRを行うため出展いたします。

日：2017年02月15日（水）～2017年02月17日（金）

場所：東京ビッグサイト　東1-6ホール　

時間：10:00-17:00

異分野融合で加速する、知の共創。世界最大の研究開発マーケットの展示会！